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经由锂多氧阴离子盐的沉积在无机基底上形成氧化物壳

摘要

本发明提供一种用于使氧化物涂层沉积到无机基底上的方法,包括提供含有四烷基铵多氧阴离子和氢氧化锂的水性组合物;使水性组合物与无机基底接触足够的时间以使锂多氧阴离子沉积到无机基底表面上,从而形成初始涂覆的无机基底;以及使所述初始涂覆的无机基底加热足够的时间以将锂多氧阴离子转化为氧化物,从而在无机基底上形成源自多氧阴离子的氧化物涂层。无机基底可以是陶瓷材料或半导体材料、玻璃或其它介电材料,并且陶瓷材料可以是锂离子电池阴极材料。

著录项

  • 公开/公告号CN105190960B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2018-05-15

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 塞克姆公司;

    申请/专利号CN201380074615.2

  • 发明设计人 郝建军;C·S·艾伦;

    申请日2013-03-12

  • 分类号

  • 代理机构隆天知识产权代理有限公司;

  • 代理人吴小瑛

  • 地址 美国得克萨斯州

  • 入库时间 2022-08-23 10:11:26

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2018-05-15

    授权

    授权

  • 2016-01-20

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01M4/36 申请日:20130312

    实质审查的生效

  • 2015-12-23

    公开

    公开

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