法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2014-08-27
未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G03F 7/20 授权公告日:20061206 终止日期:20130711 申请日:20030711
专利权的终止
2006-12-06
授权
授权
2004-07-07
实质审查的生效
实质审查的生效
2004-05-05
公开
公开
机译: 投影光学系统的掩模曝光方法和检查方法以及投影光学系统的曝光设备和检查设备
机译: 投影光学系统的检查装置和检查方法,用于测量图像形成特性的掩模,报警器和曝光方法
机译: 接近曝光光掩模检查装置,接近曝光光掩模检查方法,接近曝光光掩模制造方法和图案转印方法