首页> 中国专利> 含倍半萜的成膜树脂及其正性浸没式曝光193nm光刻胶

含倍半萜的成膜树脂及其正性浸没式曝光193nm光刻胶

摘要

本发明公开一种含倍半萜的成膜树脂及其浸没式曝光193nm正性光刻胶,其成膜树脂的分子量为4,000~5,000,000,分子量分布为1.4~2.4;共聚单体主要为下列质量百分含量的化合物:含天然产物倍半萜的组成单元10%~60%;含酸敏基团单体5%~40%;具有疏水性能基团的单体2%~40%;其它性能调节组分单体1%~20%;含倍半萜单元是指符合化学通式(

著录项

  • 公开/公告号CN104448113B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2018-05-08

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 昆山西迪光电材料有限公司;

    申请/专利号CN201410684204.1

  • 发明设计人 冉瑞成;沈吉;孙友松;贺宝元;

    申请日2014-11-25

  • 分类号

  • 代理机构苏州创元专利商标事务所有限公司;

  • 代理人马明渡

  • 地址 215311 江苏省苏州市昆山市巴城镇苇城南路1666号清华科技园创新大厦6层

  • 入库时间 2022-08-23 10:10:35

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2018-05-08

    授权

    授权

  • 2015-04-22

    实质审查的生效 IPC(主分类):C08F220/18 申请日:20141125

    实质审查的生效

  • 2015-03-25

    公开

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