公开/公告号CN104448113B
专利类型发明专利
公开/公告日2018-05-08
原文格式PDF
申请/专利权人 昆山西迪光电材料有限公司;
申请/专利号CN201410684204.1
申请日2014-11-25
分类号
代理机构苏州创元专利商标事务所有限公司;
代理人马明渡
地址 215311 江苏省苏州市昆山市巴城镇苇城南路1666号清华科技园创新大厦6层
入库时间 2022-08-23 10:10:35
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2018-05-08
授权
授权
2015-04-22
实质审查的生效 IPC(主分类):C08F220/18 申请日:20141125
实质审查的生效
2015-03-25
公开
公开
机译: 正性抗蚀剂组合物用于浸没曝光的用途,正性抗蚀剂组合物和使用该组合物的浸没光刻图案形成方法
机译: 193NM正性光刻胶组合物
机译: 正性光刻胶树脂和包含该树脂的化学放大正性光刻胶组合物