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含倍半萜内酯的成膜树脂及其正性浸没式曝光193nm光刻胶

摘要

本发明公开一种含倍半萜内酯的成膜树脂及其正性浸没式曝光193nm光刻胶;所述成膜树脂由含倍半萜内酯的(甲基)丙烯酸酯单体和相关共聚单体在溶剂中进行自由基共聚反应制备而成,其特征在于:所述成膜树脂的分子量为4,000~5,000,000,分子量分布为1.4~2.4;所述共聚单体主要为下列质量百分含量的化合物:含天然产物倍半萜内酯的组成单元10%~60%;含酸敏基团单体5%~40%;具有疏水性能基团的单体2%~40%;其它性能调节组分单体1%~20%;所述含倍半萜内酯单元是指符合化学通式(Ⅱ)的至少一种倍半萜内酯醇的(甲基)丙烯酸酯类化合物。本发明公开的浸没式曝光193nm正性光刻胶不仅具有良好的分辨率,还可以增加光刻胶与硅片之间的粘附性能,也提高了光刻胶的耐热性能和抗刻蚀性能。

著录项

  • 公开/公告号CN104403048B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2018-05-08

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 昆山西迪光电材料有限公司;

    申请/专利号CN201410684078.X

  • 发明设计人 冉瑞成;沈吉;孙友松;潘新刚;

    申请日2014-11-25

  • 分类号

  • 代理机构苏州创元专利商标事务所有限公司;

  • 代理人马明渡

  • 地址 215311 江苏省苏州市昆山市巴城镇苇城南路1666号清华科技园创新大厦6层

  • 入库时间 2022-08-23 10:11:04

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2018-05-08

    授权

    授权

  • 2015-04-08

    实质审查的生效 IPC(主分类):C08F220/40 申请日:20141125

    实质审查的生效

  • 2015-03-11

    公开

    公开

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