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一种光场偏折术测量系统标定镜及其应用方法

摘要

本发明属于光学测量领域,涉及一种光场偏折术测量系统标定镜及其应用方法。本标定镜用于标定光场偏折术系统的位姿关系,用于标定相机5和双层光平面调制器间3和4的关系以及双层光平面调制器3和4间的关系,包括一个标定镜其镜面由标准棋盘格镜面和反射镜面并联组成;即将棋盘格刻画在一个平面反射镜的一部分上,使其具有标定棋盘格和反射功能;所述标定方法分为普通相机标定法和光场相机标定法。所述标定方法只需一次拍摄即可完成所有位姿关系的标定,具有操作简单容易操作,精度高等优点。所述光场相机标定法填补了国内外关于光场偏折术测量系统光场相机模式下标定的空白,为光场偏折术测量系统测量高反射物体提供了基础。

著录项

  • 公开/公告号CN105403173B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2018-05-01

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 上海大学;

    申请/专利号CN201511004270.0

  • 发明设计人 贾君慧;张旭;李晨;

    申请日2015-12-29

  • 分类号G01B11/25(20060101);

  • 代理机构31205 上海上大专利事务所(普通合伙);

  • 代理人何文欣

  • 地址 200444 上海市宝山区上大路99号

  • 入库时间 2022-08-23 10:10:13

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2018-05-01

    授权

    授权

  • 2016-04-13

    实质审查的生效 IPC(主分类):G01B11/25 申请日:20151229

    实质审查的生效

  • 2016-03-16

    公开

    公开

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