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利用光学邻近效应修正多边形光罩特征图案的方法

摘要

本发明是提供一种光罩图案区块的方式,且不需使用外加的饰线以修正具有内角多边形的光罩特征图案,使得具有至少一个内角的特征图案可以得到有效的光学邻近效应修正且不会有任何外加的数据点增加。因此,可以取代传统的利用饰线作为光学邻近效应修正的方式,进一步地可以获得有效的光学邻近效应修正。此外,对于规则的光罩写入单位,当未修正的光罩特征图案经分割形成数个形状为矩形或是不规则四边形光罩写入单位时,可以改善光罩写入的时间,并且在分割的光罩写入单位中没有内角的存在。另外,当使用简单的几何图形时,可以简化图案检查并且使得校正步骤较为容易。

著录项

  • 公开/公告号CN1285967C

    专利类型发明授权

  • 公开/公告日2006-11-22

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 联华电子股份有限公司;

    申请/专利号CN02101840.5

  • 发明设计人 谢昌志;黄俊仁;黄瑞祯;

    申请日2002-01-09

  • 分类号G03F1/08(20060101);G03F7/00(20060101);

  • 代理机构31100 上海专利商标事务所有限公司;

  • 代理人任永武

  • 地址 台湾省新竹科学工业园区新竹市力行二路三号

  • 入库时间 2022-08-23 08:58:53

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2006-11-22

    授权

    授权

  • 2003-10-08

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2003-07-23

    公开

    公开

  • 2002-05-08

    实质审查的生效

    实质审查的生效

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