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电子光学排布结构、多电子分束检验系统和方法

摘要

本发明涉及电子光学排布结构、多电子分束检验系统和方法。该电子光学排布结构提供一次和二次电子束路径,一次束路径用于从一次电子源指向可定位在该排布结构的物面中的物体的一次电子束,二次束路径用于源自物体的二次电子,该结构包括磁体排布结构,其具有:第一磁场区,由一次和二次电子束路径穿过,用于将一次和二次电子束路径相互分开;第二磁场区,布置在第一磁场区的上游的一次电子束路径中,二次电子束路径不穿过第二磁场区,第一和第二磁场区沿基本上相反的方向使一次电子束路径偏转;第三磁场区,布置在第一磁场区的下游的二次电子束路径中,一次电子束路径不穿过第三磁场区,第一和第三磁场区沿基本上相同的方向使二次电子束路径偏转。

著录项

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2018-03-27

    授权

    授权

  • 2017-05-17

    著录事项变更 IPC(主分类):H01J37/09 变更前: 变更后: 申请日:20040907

    著录事项变更

  • 2016-12-14

    专利申请权的转移 IPC(主分类):H01J37/09 登记生效日:20161121 变更前: 变更后: 申请日:20040907

    专利申请权、专利权的转移

  • 2016-02-03

    著录事项变更 IPC(主分类):H01J37/09 变更前: 变更后: 申请日:20040907

    著录事项变更

  • 2016-01-13

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01J37/09 申请日:20040907

    实质审查的生效

  • 2015-12-16

    公开

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