磁流变柔性抛光垫的动态磁场自锐抛光装置及其抛光方法

摘要

本发明是一种磁流变柔性抛光垫的动态磁场自锐抛光装置及其抛光方法，包括抛光盘公转机构和多磁极同步旋转驱动机构，抛光盘公转机构包括传动轴电机、传动轴、转接盘、偏心轴固定盘、杯形抛光盘、传动轴传动机构，多磁极同步旋转驱动机构包括偏心主轴、同步旋转驱动盘、柔性偏心转动轴、偏心套、磁极、偏心轴固定盘、主轴电机等，本发明不需采用循环装置对磁流变液进行更新，且加工过程中不需更换磁流变液，节省空间，一次加工可实现粗抛光到精抛光的全过程，所获工件表面一致性好，加工效率高，无表面和亚表面损伤，成本低，适合大直径光学元件的平面高效率超光滑均匀抛光加工。同时，本发明还适于光学平面材料的材料去除机理和亚表面损伤检测等试验研究。