法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2018-05-25
著录事项变更 IPC(主分类):F16L41/08 变更前: 变更后: 申请日:20151012
著录事项变更
2018-03-16
授权
授权
2016-03-02
实质审查的生效 IPC(主分类):F16L41/08 申请日:20151012
实质审查的生效
2016-02-03
公开
公开
机译: 半导体集成电路设备具有通过连接孔暴露的第一条布线带,连接孔中的过渡金属膜和铝布线带,以及铝箔之间的过渡金属膜和过渡金属氮化物膜
机译: 使用第4族过渡金属膜形成组合物的含第4族过渡金属膜的气相沉积方法
机译: 使用第4族过渡金属膜形成组合物的含第4族过渡金属膜的气相沉积方法