一种基于纳米成型技术的力响应性光子晶体材料的制备方法

摘要

本发明公开了一种基于纳米成型技术的力响应性光子晶体材料的制备方法，其按预先设计的光子晶体结构参数，刻蚀出母模板，以制备出具有逆纳米量级图案的弹性聚合物软模板，并将软模板作为二次模板，通过三步图案转移的方式，将母模板上的图案“高保真”地“复制”到高弹性凝胶基体层中，以固定光子晶体的晶格位置；然后，将粘弹性聚合物填充在晶格中得到具有光子晶体结构的单层高弹性凝胶‑粘弹性聚合物复合层，再通过逐层压印的方法制得具有力响应性的光子晶体材料。本发明的制备方法相对于现有技术，具有工艺简单、流程短、工艺参数易于控制，模板可重复使用，产品精度等级高、质量稳定可靠，成本较低等特点。