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一种碳/氧化镍/镍图案化微电极的制备工艺

摘要

本发明公开了一种碳/氧化镍/镍图案化微电极的制备工艺,包括以下步骤:1)中空氧化镍纳米球合成;2)光刻胶‑氧化镍纳米球复合材料微电极的图案化:将中空氧化镍纳米球和光刻胶进行机械搅拌和超声处理,将所得混合物涂覆于电极基板上,再进行光刻、显影、润洗;3)微电极高温热解。本发明创新性地利用光刻胶的光致抗蚀性,并以光刻胶中的感光树脂为碳源与水热法合成的中空氧化镍纳米球进行复合,制得碳/氧化镍/镍图案化微电极,实现了热解碳‑氧化镍复合材料的微电极化目的,且所得微电极表现出良好的电化学性能和机械性能,应用前景广阔。

著录项

  • 公开/公告号CN105810454B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2018-01-23

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 武汉理工大学;

    申请/专利号CN201610209074.5

  • 发明设计人 何亮;杨艳娟;麦立强;

    申请日2016-04-06

  • 分类号

  • 代理机构湖北武汉永嘉专利代理有限公司;

  • 代理人张惠玲

  • 地址 430070 湖北省武汉市洪山区珞狮路122号

  • 入库时间 2022-08-23 10:06:49

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2018-01-23

    授权

    授权

  • 2016-08-24

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01G11/86 申请日:20160406

    实质审查的生效

  • 2016-07-27

    公开

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