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用于减小磁存储器元件接触部的尺寸和中心定位的方法

摘要

一种在磁存储器件的层上使接触部居中的方法。在一个实施例中,在包围上层的开口中形成间隔物,并在间隔物内形成接触部。间隔物由各向异性蚀刻的共形层形成,所述共形层沉积在上表面上并沉积到开口中。

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法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2018-01-12

    授权

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  • 2014-12-10

    实质审查的生效 IPC(主分类):G11C11/15 申请日:20111220

    实质审查的生效

  • 2014-11-05

    公开

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