法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2017-12-12
授权
授权
2015-10-14
实质审查的生效 IPC(主分类):B03D1/02 申请日:20150703
实质审查的生效
2015-09-16
公开
公开
机译: 一种生产硅片的方法,该硅片包含硅的单晶基板,该硅基板具有正反面和沉积在正反面上的SiGe层
机译: 化学处理和浮选工艺相结合,可从粗品或低品位矿石中回收相对较高品位的辉钼矿
机译: 化学处理和浮选工艺相结合,可从粗品或低品位矿石中回收相对较高品位的辉钼矿