公开/公告号CN1267787C
专利类型发明授权
公开/公告日2006-08-02
原文格式PDF
申请/专利权人 中国人民解放军国防科学技术大学;
申请/专利号CN200410022816.0
申请日2004-01-06
分类号G03F1/00(20060101);G03F7/20(20060101);G06F3/00(20060101);
代理机构43008 湖南兆弘专利事务所;
代理人傅俏梅
地址 410073 湖南省长沙市砚瓦池正街47号国防科技大学机电工程与自动化学院
入库时间 2022-08-23 08:58:40
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2011-03-23
未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G03F 1/00 授权公告日:20060802 终止日期:20100208 申请日:20040106
专利权的终止
2006-08-02
授权
授权
2005-02-23
实质审查的生效
实质审查的生效
2004-12-22
公开
公开
机译: 灰度掩模,制造光学器件的方法,制造衬底的方法和制造灰度掩模的方法
机译: 灰度掩模的制造方法,灰度掩模,微光学元件的制造方法,微光学元件和曝光装置
机译: 灰度掩模的制造方法,灰度掩模,微光学元件,微光学元件的制造方法以及曝光装置