使用蓝膜保护硅片表面部分二氧化硅膜的方法

摘要

使用蓝膜保护硅片表面部分二氧化硅膜的方法，通过使用丙烯酸粘着剂蓝膜作为保护二氧化硅层用蓝膜，然后在多余的二氧化硅层经氟化氢腐蚀去除后浸入半导体清洗常用的氨水溶液内，经过一定时间后蓝膜自动被剥离硅片表面。该剥离蓝膜方法操作简单，可以进行批量脱膜，大大提高了生产效率，且没有人员参与到剥离蓝膜的动作中，减少了人员对硅片的沾污与损伤，同时硅片表面的残余的蓝膜胶在剥离蓝膜的过程中被全部去除，节省了工序，降低了成本。