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使用含有金离子和氟离子的溶液形成金属硅化物的方法

摘要

本发明涉及一种用于形成硅化镍或硅化钴的方法,包括以下步骤:‑将含硅基板的表面暴露到含有0.1mM~10mM的金离子和0.6M~3.0M的氟离子的水溶液中并持续在5秒~5分钟之间的时间,‑通过无电镀手段在活化的基板上沉积基本上由镍或钴构成的层,‑在300℃~750℃之间的温度下施加快速热处理,从而形成硅化镍或硅化钴。所述水溶液包含选自含有至少一种阴离子或非离子极性基团并含有10~16个碳原子的烷基链的化合物的表面活性剂。这种方法基本上可以应用到NAND存储器和光伏电池的制造。

著录项

  • 公开/公告号CN105074052B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2017-11-10

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 埃其玛公司;

    申请/专利号CN201480009890.0

  • 申请日2014-02-21

  • 分类号

  • 代理机构北京信慧永光知识产权代理有限责任公司;

  • 代理人梁兴龙

  • 地址 法国梅西

  • 入库时间 2022-08-23 10:03:19

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2017-11-10

    授权

    授权

  • 2016-02-17

    实质审查的生效 IPC(主分类):C23C 18/18 申请日:20140221

    实质审查的生效

  • 2016-02-17

    实质审查的生效 IPC(主分类):C23C 18/18 申请日:20140221

    实质审查的生效

  • 2015-11-18

    公开

    公开

  • 2015-11-18

    公开

    公开

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