化学机械研磨方法与自我对准方法

摘要

一种化学机械研磨方法与自我对准方法。首先，提供具有图形的基底。然后，于基底上形成碳层，且此碳层覆盖上述的图形。接着，进行化学机械研磨步骤，移除部分碳层，直到暴露出图形的顶面，其中化学机械研磨步骤中使用的研浆中含有氧化剂，所述氧化剂用以氧化碳层，且在化学机械研磨步骤中，经氧化的碳层被移除。之后，以碳层为掩模，移除部分暴露出的图形。