法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2017-09-29
授权
授权
2016-01-13
实质审查的生效 IPC(主分类):G01L 9/00 申请日:20150828
实质审查的生效
2016-01-13
实质审查的生效 IPC(主分类):G01L 9/00 申请日:20150828
实质审查的生效
2015-12-16
公开
公开
2015-12-16
公开
公开
机译: 气体压力测量高速飞行器速度的方法
机译: 气体压力测量高速飞行器速度的方法
机译: 半导体设备生产过程中等离子体蚀刻室压力的测量方法和半导体设备生产过程中等离子体蚀刻室压力和蚀刻效率的同步测量方法无效