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光子源、检查设备、光刻系统以及器件制造方法

摘要

一种激光驱动的光源,包括激光器(52)和聚焦光学装置(54)。这些产生聚焦在容器(40)内的等离子体形成区上的辐射束,其中所述容器包括气体(例如,氙气)。收集光学装置(44)收集由通过所述激光束保持的等离子体(42)发射的光子,以形成输出辐射束(46)。等离子体具有细长形状(L>d),并且收集光学装置被配置用于收集沿纵向从等离子体出射的光子。相比于收集沿横向从等离子体出射的辐射的源,等离子体的亮度被增大。由于增大的亮度,使用所述光源的量测设备可以获得较大的精确度和/或生产率。可以提供回射反射器。微波辐射可以被使用,代替激光辐射,以形成等离子体。

著录项

  • 公开/公告号CN104380203B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2017-09-08

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 ASML荷兰有限公司;

    申请/专利号CN201380030523.4

  • 申请日2013-05-23

  • 分类号G03F7/20(20060101);H05G2/00(20060101);G01N21/956(20060101);H01J65/04(20060101);H01J61/02(20060101);H01J61/54(20060101);H05B41/38(20060101);

  • 代理机构11021 中科专利商标代理有限责任公司;

  • 代理人张启程

  • 地址 荷兰维德霍温

  • 入库时间 2022-08-23 10:00:35

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2017-09-08

    授权

    授权

  • 2015-03-25

    实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/20 申请日:20130523

    实质审查的生效

  • 2015-03-25

    实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/20 申请日:20130523

    实质审查的生效

  • 2015-02-25

    公开

    公开

  • 2015-02-25

    公开

    公开

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