首页> 中国专利> 底层组合物和成像底层组合物的方法

底层组合物和成像底层组合物的方法

摘要

一种形成图案的方法,包括照射包括酸敏共聚物和光酸产生剂的底层的一部分,该酸敏共聚物包括酸可分解基团、连接基团和官能团,该连接基团共价键合到基材的亲水表面,交联形成共聚物交联,或者既被共价键合到基材的表面,又交联形成共聚物交联,其中该酸可分解基团与由底层的被照射区域中的光酸产生剂所产生的酸发生反应,以在底层的表面上形成极性区域,该极性区域具有图案的形状和尺寸,在该底层的表面上形成自组装层,该自组装层包括嵌段共聚物,该嵌段聚合物包括对该极性区域具有亲和性的第一嵌段和对该极性区域具有比第一嵌段小的亲和性的第二嵌段,其中该第一嵌段形成了对齐该极性区域的第一微区,并且该第二嵌段形成了邻近对齐该第一微区的第二微区,和移除该第一或第二微区以暴露出该底层的下层部分。

著录项

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2017-09-22

    授权

    授权

  • 2012-09-12

    实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/00 申请日:20110930

    实质审查的生效

  • 2012-09-12

    实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/00 申请日:20110930

    实质审查的生效

  • 2012-07-11

    公开

    公开

  • 2012-07-11

    公开

    公开

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号