用于制造几何相位全息图的直写式光刻法

摘要

直写光刻装置包括配置成改变来自光源的光的极化定向角的极化选择器级、配置成将来自光源的光聚焦到在其焦平面处的斑点中的聚焦元件、以及配置成在至少两个维度中沿着布置成接近焦平面的极化敏感记录介质的表面扫描斑点使得相邻的扫描实质上重叠的扫描级。极化选择器级和扫描级被配置成彼此独立地进行操作。也讨论了相关的制造方法和由此制造的光学元件。