首页> 中国专利> 一种高密度互连电路板循环使用的酸性蚀刻液及其制备方法

一种高密度互连电路板循环使用的酸性蚀刻液及其制备方法

摘要

本发明涉及一种高密度互联电路板循环使用的酸性蚀刻液,每升酸性蚀刻液中包括以下组分:氯酸钠196克、氯化钾26克、碳酸钾1.0克、蚀刻废液826毫升。本发明中,将蚀刻废液回收,然后添加一定量的氯酸钠、碳酸钾和氯化钾,使各组分的含量达到预先要求,然后将其代替传统配方的蚀刻液在线体中使用,经过试验,降低了原有八级处理中片碱、聚合氯化铝的用量,节约了大量的水,线体的蚀刻速度增加了很多,蚀刻能力也得到了提高,降低了酸雾的产生,在保护环境的同时;也有效降低了新资源的投入,年节约费用达到60万元以上,本技术是实现由再生资源进行产品加工的有效途径。

著录项

  • 公开/公告号CN104278272B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2017-09-08

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 天津普林电路股份有限公司;

    申请/专利号CN201410182018.8

  • 发明设计人 王刚;

    申请日2014-04-30

  • 分类号

  • 代理机构天津盛理知识产权代理有限公司;

  • 代理人赵熠

  • 地址 300308 天津市滨海新区空港经济区航海路53号

  • 入库时间 2022-08-23 10:00:19

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2017-09-08

    授权

    授权

  • 2015-02-11

    实质审查的生效 IPC(主分类):C23F 1/18 申请日:20140430

    实质审查的生效

  • 2015-02-11

    实质审查的生效 IPC(主分类):C23F 1/18 申请日:20140430

    实质审查的生效

  • 2015-01-14

    公开

    公开

  • 2015-01-14

    公开

    公开

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