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铋钛硅氧化物,铋钛硅氧化物薄膜,以及薄膜制备方法

摘要

本发明提供一种具有烧绿石相的铋钛硅氧化物,一种由铋钛硅氧化物形成的薄膜,以及制备这种铋钛硅氧化物薄膜的方法,用于半导体设备并包含这种铋钛硅氧化物薄膜的电容器和晶体管,采用了这种电容器和/或晶体管的电子设备。铋钛硅氧化物具有良好的介电性质,并且其是热稳定以及化学稳定的。铋钛硅氧化物薄膜可以有效的应用于半导体设备中作为电容器的介电薄膜或者晶体管的门极介电薄膜。应用具有铋钛硅氧化物薄膜的电容器和/或晶体管可以制备出具有良好的电特性的各式电子设备。

著录项

  • 公开/公告号CN1252804C

    专利类型发明授权

  • 公开/公告日2006-04-19

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 三星电子株式会社;

    申请/专利号CN03147080.7

  • 申请日2003-08-06

  • 分类号H01L21/316(20060101);

  • 代理机构11105 北京市柳沈律师事务所;

  • 代理人赵仁临;张平元

  • 地址 韩国京畿道

  • 入库时间 2022-08-23 08:58:27

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2017-09-22

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):H01L 21/316 授权公告日:20060419 终止日期:20160806 申请日:20030806

    专利权的终止

  • 2006-04-19

    授权

    授权

  • 2006-04-19

    授权

    授权

  • 2004-07-14

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2004-07-14

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2004-05-12

    公开

    公开

  • 2004-05-12

    公开

    公开

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