法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2010-02-10
专利权的终止(未缴年费专利权终止)
专利权的终止(未缴年费专利权终止)
2006-07-05
授权
授权
2005-08-31
实质审查的生效
实质审查的生效
2005-07-06
公开
公开
机译: 低温多晶硅薄膜的元件及其在低温下直接淀积的多晶硅薄膜的方法及其感应耦合等离子体化学气相淀积设备
机译: 高速旋转汽相淀积装置及高速旋转汽相淀积薄膜形成方法
机译: 确定透明物质在参考表面上的边界表面的拓扑的方法,涉及通过透明物质的边界表面接收二维图案的二维图像