用于哈氏合金基带的电化学抛光液、制备方法及抛光方法

摘要

本发明公开了一种电化学抛光液、电化学抛光液的制备方法及抛光工艺，电化学抛光液包括组分：98％浓硫酸、85％浓磷酸、甘油、硫脲、柠檬酸铵、一水合柠檬酸、氟硼酸、二乙烯三胺五乙酸、硫酸铵及水，采用本发明中电化学抛光液进行抛光后的哈氏合金基带，其表面平整、光亮、表面粗糙度为1nm以下，并且抛光过程中造成的缺陷较少，可保证长期、稳定、大量的工业化生产第二代高温超导线材，满足生产上的可行性与可靠性。