公开/公告号CN103901737B
专利类型发明专利
公开/公告日2017-08-25
原文格式PDF
申请/专利权人 ASML荷兰有限公司;
申请/专利号CN201410077948.7
申请日2011-03-17
分类号G03F7/20(20060101);G03F1/24(20120101);G03F1/62(20120101);G02B5/08(20060101);B82Y10/00(20110101);B82Y40/00(20110101);
代理机构11021 中科专利商标代理有限责任公司;
代理人张启程
地址 荷兰维德霍温
入库时间 2022-08-23 09:59:42
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2017-08-25
授权
授权
2014-07-30
实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/20 申请日:20110317
实质审查的生效
2014-07-30
实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/20 申请日:20110317
实质审查的生效
2014-07-02
公开
公开
2014-07-02
公开
公开
机译: 多层膜反射镜,EUV曝光设备以及去除多层膜反射镜中的污染物的方法
机译: 用于EUV的多层反射镜,用于其的波前像差校正方法以及包括该反射镜的EUV光学系统
机译: 用于EUV的多层反射镜,用于其的波前像差校正方法以及包括该反射镜的EUV光学系统