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一种具有平面型发射阴极的纳米真空三极管及其制作方法

摘要

本发明提出了一种具有平面型发射阴极的纳米真空三极管及制作方法。所述方法包括:衬底;背电极,其制作在衬底的背面;平面冷阴极,其制作在衬底的正面;第一绝缘层,其制作在平面冷阴极上;栅层,其制作在第一绝缘层上;第二绝缘层,其制作在氧化铟锡薄膜栅层上;圆柱型小孔,其贯穿第一绝缘层、栅层和第二绝缘层而形成;栅层台阶,其是通过刻蚀第二绝缘层到栅层形成的;阳极层,其制作在第二绝缘层上;其中,所述第一绝缘层、氧化铟锡薄膜栅层、第二绝缘层的总厚度在10‑100纳米之间。本发明克服了尖端结构电子发射密度不均匀、尖端容易损坏的缺陷,同时氮化铝材料所具有的负电子亲和势特性又弥补了平面型阴极需要更高阈值电场强度的不足。

著录项

  • 公开/公告号CN104299988B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2017-08-25

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 中国科学院半导体研究所;

    申请/专利号CN201410504100.8

  • 申请日2014-09-26

  • 分类号

  • 代理机构中科专利商标代理有限责任公司;

  • 代理人宋焰琴

  • 地址 100083 北京市海淀区清华东路甲35号

  • 入库时间 2022-08-23 09:59:26

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2017-08-25

    授权

    授权

  • 2015-02-18

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 29/73 申请日:20140926

    实质审查的生效

  • 2015-02-18

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 29/73 申请日:20140926

    实质审查的生效

  • 2015-01-21

    公开

    公开

  • 2015-01-21

    公开

    公开

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