法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2011-01-05
未缴年费专利权终止 IPC(主分类):H05B 33/10 授权公告日:20060719 终止日期:20091028 申请日:20010928
专利权的终止
2006-07-19
授权
授权
2003-12-17
实质审查的生效
实质审查的生效
2002-07-10
公开
公开
机译: 使用掩模在基板上附着层材料并以预定图案形成层的方法
机译: 使用掩模在基板上附着层材料并以预定图案形成层的方法
机译: 使用掩模在基板上附着层材料并以预定图案形成层的方法