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Method of attaching layer material and forming layer in predetermined pattern on substrate using mask

机译:使用掩模在基板上附着层材料并以预定图案形成层的方法

摘要

Upon formation of a layer such as an emissive layer of an organic EL element by attaching an emissive material onto a substrate (10), an evaporation mask (100) including an opening (110) corresponding to the layer formed to have a plurality of individual patterns and having an area, for example, smaller than the substrate is disposed between the substrate (10) and a material source (200). A relative position between the mask (100) and the material source (200), and the substrate (10) is slid by a predetermined pitch corresponding to the size of a pixel of the substrate (10), thereby forming a material layer (such as the emissive layer 64) in a predetermined region of the substrate. As a result, the material layer can be formed on the substrate through, for example, evaporation with a high accuracy.
机译:在通过将发光材料附着到基板(10)上而形成诸如有机EL元件的发光层的层时,包括与形成为具有多个单独层的层相对应的包括开口(110)的蒸发掩模(100)在基板(10)和材料源(200)之间设置有图案,并且具有例如小于基板的面积。使掩模(100)和材料源(200)以及基板(10)之间的相对位置滑动与基板(10)的像素尺寸相对应的预定间距,从而形成材料层(例如在基板的预定区域中的“发光层64”(发光层64)。结果,可以通过例如高精度地蒸发来在基板上形成材料层。

著录项

  • 公开/公告号EP1207557A3

    专利类型

  • 公开/公告日2005-10-12

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 SANYO ELECTRIC CO. LTD.;

    申请/专利号EP20010308327

  • 发明设计人 YAMADA TSUTOMU;YONEDA KIYOSHI;

    申请日2001-09-28

  • 分类号H01L27/00;H01L51/40;

  • 国家 EP

  • 入库时间 2022-08-21 22:10:02

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