一种低温电解渗硼用渗硼剂及渗硼工艺

摘要

本发明公开了一种金属表面低温电解渗硼用渗硼剂及渗硼工艺，渗硼剂由65～98.9wt.％NaBF₄、1～20wt.％B₂O₃、0.1～15wt.％添加剂组成。渗硼处理时，先将配制好的渗硼剂装入坩埚并置于电阻炉或电频炉中，金属工件作为阴极，石墨材料作为阳极，升温至450～850℃，保温，待渗硼剂熔化完全后，通以直流电，电流密度控制在50～800mA·cm^‑2，电解0.5～12h后，断电，将金属工件从渗硼剂熔体中取出，以适当方式冷却，清理附着的电解质。本发明所述的渗硼剂具有熔融状态流动性好、导电性好、可重复使用且易与金属工件分离的特点；所述渗硼工艺能耗较低、操作温度低、可实现一些低熔点金属及其合金的渗硼处理。