一种用于浸没式光刻机的浸没液体控制装置

摘要

本发明公开了一种用于浸没式光刻机的浸没液体控制装置。包括浸没单元基体和回收网孔板，基体中间为圆形薄衬板，周围为环形方体结构，圆形薄衬板中心开有矩形通孔，环形方体部设有对称的水平注液腔和水平注液口，环形方体部设有对称的水平回液腔和水平回液口，水平注液口和水平回液口水平两侧的浸没单元基体侧壁均分别开有注气口和垂直回收口，浸没单元基体环形方体部的下表面向外依次开有均浸没液体缓冲槽、垂直回收槽和注气槽。本发明能够有效地提高浸没液体的利用率和增强核心流场区域的稳定性，能够有效地提高硅片的扫描速度，提高浸没单元的垂直回收效率以及减小流场振动，实现了对浸没液体的稳定更新与动态密封的控制功能。