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红外光学系统因杂散辐射引起的最大像面温差计算方法

摘要

本发明公开了一种红外光学系统因杂散辐射引起的最大像面温差计算方法,步骤如下:S1:建立红外光学系统的杂散辐射模型;S2:将光源设置为某一温度的面源黑体,追迹光线后得到面源黑体经红外光学系统所成的像;S3:处理像面光照度图像,把像面合理分块为若干个小单元,计算每一小单元上的能量大小;S4:根据处理结果分析得到像面平均能量、最大单元能量和最小单元能量,结合单元像面面积,计算局部辐照度偏差系数;S5:根据红外光学系统视场对像面照度的影响,对局部辐照度偏差系数作出数值修正;S6:由局部辐照度偏差系数与像面偏差温度之间的关系式计算出最大偏差温度的大小。本方法简单,计算量小,已经在实际项目中投入运用。

著录项

  • 公开/公告号CN104614080B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2017-06-16

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 哈尔滨工业大学;

    申请/专利号CN201510058240.1

  • 申请日2015-02-04

  • 分类号G01J5/52(20060101);

  • 代理机构23206 哈尔滨龙科专利代理有限公司;

  • 代理人高媛

  • 地址 150000 黑龙江省哈尔滨市南岗区西大直街92号

  • 入库时间 2022-08-23 09:57:29

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-06-11

    专利权的转移 IPC(主分类):G01J 5/52 登记生效日:20190522 变更前: 变更后: 申请日:20150204

    专利申请权、专利权的转移

  • 2017-06-16

    授权

    授权

  • 2017-06-16

    授权

    授权

  • 2015-06-10

    实质审查的生效 IPC(主分类):G01J5/52 申请日:20150204

    实质审查的生效

  • 2015-06-10

    实质审查的生效 IPC(主分类):G01J 5/52 申请日:20150204

    实质审查的生效

  • 2015-05-13

    公开

    公开

  • 2015-05-13

    公开

    公开

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