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一种大视场高数值孔径全球面光刻机投影物镜

摘要

本发明公开了一种大视场高数值孔径全球面光刻机投影物镜,其像方有效视场为132×132mm,像方数值孔径可达0.17。物镜采用物方、像方双远心结构,共使用了21片透镜,所有透镜表面都为纯球面。本发明以对称、简单的结构实现所需的微米级的分辨率,保证了曝光所需足够的光强,能很好地解决国内现有大面积平板光刻设备的分辨率低、图像传递能力差的问题,同时,本发明实现了对系统研制的短周期、低成本的控制。

著录项

  • 公开/公告号CN104950427B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2017-06-13

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 中国科学院光电技术研究所;

    申请/专利号CN201510382003.0

  • 发明设计人 邓超;邢廷文;朱咸昌;

    申请日2015-07-02

  • 分类号

  • 代理机构

  • 代理人

  • 地址 610209 四川省成都市双流350信箱

  • 入库时间 2022-08-23 09:57:16

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2017-06-13

    授权

    授权

  • 2015-11-04

    实质审查的生效 IPC(主分类):G02B 13/22 申请日:20150702

    实质审查的生效

  • 2015-09-30

    公开

    公开

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