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提高多晶硅沉积速率及提高多晶硅副产SIHCL

摘要

本提高多晶硅沉积速率及提高多晶硅副产SIHCL

著录项

  • 公开/公告号CN105540592B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2017-05-31

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 成都蜀菱科技发展有限公司;

    申请/专利号CN201510969137.2

  • 发明设计人 沈祖祥;王姗;冉耘瑞;陈建;

    申请日2015-12-22

  • 分类号

  • 代理机构成都希盛知识产权代理有限公司;

  • 代理人柯海军

  • 地址 610000 四川省成都市新津工业园区新材料产业功能区新材18路

  • 入库时间 2022-08-23 09:57:01

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2017-05-31

    授权

    授权

  • 2016-11-16

    著录事项变更 IPC(主分类):C01B 33/035 变更前: 变更后: 申请日:20151222

    著录事项变更

  • 2016-06-01

    实质审查的生效 IPC(主分类):C01B 33/035 申请日:20151222

    实质审查的生效

  • 2016-05-04

    公开

    公开

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