首页> 中国专利> 基于X射线光学仿真的掠入射光学系统聚焦性能分析方法

基于X射线光学仿真的掠入射光学系统聚焦性能分析方法

摘要

本发明提供了基于X射线光学仿真的掠入射光学系统聚焦性能分析方法,该方法充分考虑了X射线光子能量和反射率的特征信息,避免了现有技术中仅考虑单一能量X射线光子,而不考虑反射率的缺陷,可以实现更接近X射线脉冲星导航装置的工程实际情况,提高了X射线光学仿真与分析的效率;采用本发明的光学系统聚焦性能分析方法,可以分别对热形变、结构形变或热‑结构耦合形变情况下的光学系统聚焦性能进行分析,得到不同情况下光学系统的弥散斑均方根半径、100%能量集中度和50%能量集中度,从而量化了不同形变对光学系统聚焦性能的影响程度,为产品的可靠性设计与优化提供了理论支持。

著录项

  • 公开/公告号CN104865050B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2017-05-31

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 北京控制工程研究所;

    申请/专利号CN201510243043.7

  • 申请日2015-05-13

  • 分类号

  • 代理机构中国航天科技专利中心;

  • 代理人范晓毅

  • 地址 100080 北京市海淀区北京2729信箱

  • 入库时间 2022-08-23 09:56:57

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2017-05-31

    授权

    授权

  • 2015-09-23

    实质审查的生效 IPC(主分类):G01M 11/02 申请日:20150513

    实质审查的生效

  • 2015-08-26

    公开

    公开

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号