一种栅控等离子体引发气相聚合表面涂层的装置及方法

摘要

一种栅控等离子体引发气相聚合表面涂层的装置及方法，属于等离子体技术领域，用于在基材表面制备聚合物涂层。其特征是，用金属栅网将真空室分隔为放电腔和处理室两部分；金属栅网与真空室绝缘；载体气体和单体蒸汽经不同管路分别送入放电腔和处理室内；待处理的基材放在处理室内；在放电腔内产生连续放电的等离子体，在金属栅网上施加脉冲正偏压释放等离子体进入处理室以引发单体聚合。该方法具有电源结构简单、价格低、调试容易，等离子体稳定，等离子体作用时间可以缩短到微秒级等优点。