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用于无接触地光学确定穿透位置的测量框架及配属的测量方法

摘要

本发明涉及一种用于无接触地光学确定弹头(134)通过目标面(102)的穿透位置的测量框架(106)。此外本发明还涉及一种配属的测量和分析方法。此外本发明涉及一种显示系统,该显示系统使用至少一个这样的测量框架(106)。测量框架包括:至少一个第一辐射源(120),用于发射第一发散辐射场;至少一个第二辐射源,用于发射第二发散辐射场,其中,第一和第二辐射场在垂直于穿透方向的平面中交叉成角;以及至少一个第一光学接收器装置(126)和至少一个第二光学接收器装置(126'),该至少一个第一光学接收器装置和至少一个第二光学接收器装置分别配设于所述至少一个第一辐射源和第二辐射源。光学接收器装置中的每个具有光学接收器元件阵列,光学接收器元件是这样可被分析,使得确定由于待探测弹头的空间扩展遮光位置。

著录项

  • 公开/公告号CN105264328B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2017-05-31

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 迈通电子有限公司;

    申请/专利号CN201480031702.4

  • 申请日2014-06-03

  • 分类号F41J5/02(20060101);

  • 代理机构11332 北京品源专利代理有限公司;

  • 代理人杨生平;钟锦舜

  • 地址 德国梅勒

  • 入库时间 2022-08-23 09:56:31

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2017-05-31

    授权

    授权

  • 2016-02-17

    实质审查的生效 IPC(主分类):F41J 5/02 申请日:20140603

    实质审查的生效

  • 2016-01-20

    公开

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