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一种使用NiTi合金外延生长NiSiGe材料的方法

摘要

本发明公开了一种使用NiTi合金外延生长NiSiGe材料的方法,所述方法是首先在硅衬底上生长Si

著录项

  • 公开/公告号CN104409321B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2017-05-10

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 上海工程技术大学;

    申请/专利号CN201410605149.2

  • 发明设计人 平云霞;侯春雷;

    申请日2014-10-30

  • 分类号

  • 代理机构上海海颂知识产权代理事务所(普通合伙);

  • 代理人何葆芳

  • 地址 201620 上海市松江区龙腾路333号

  • 入库时间 2022-08-23 09:55:55

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2017-05-10

    授权

    授权

  • 2015-04-08

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/02 申请日:20141030

    实质审查的生效

  • 2015-03-11

    公开

    公开

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