法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2017-04-12
授权
授权
2015-04-22
实质审查的生效 IPC(主分类):G01N 21/31 申请日:20141203
实质审查的生效
2015-03-25
公开
公开
机译: 光敏集成电路,例如电子芯片,生产,例如网络摄像头包括在晶体管和集成电路之间形成反射层,其中反射层反射未被硅层吸收的光子
机译: 用于形成抗反射层的三元共聚物及其制备方法包括该三元共聚物的用于形成抗反射层的热塑性组合物和用于形成抗反射层的方法
机译: 用于形成抗反射层的三元共聚物及其制备方法,用于形成包括三元共聚物的抗反射层的组成以及用于形成抗反射层的方法