用于薄膜沉积的铌和钒有机金属前体

摘要

本发明涉及在基底上形成含金属的层的方法，该方法包括至少下列步骤：a)提供包含至少一种选自如下所示的前体化合物的蒸气；b)提供至少一种选自下组的反应气体：氢、硫化氢、硒化氢、碲化氢、一氧化碳、氨、有机胺、硅烷、乙硅烷、更高级硅烷、甲硅烷基胺、乙硼烷、肼、甲基肼、氯硅烷和氯代聚硅烷、金属烷基、胂、膦、三烷基硼、氧、臭氧、水、过氧化氢、氧化亚氮、一氧化二氮、二氧化氮、醇、包含这些物类的片段的等离子体，以及它们的组合；c)根据沉积法，使所述蒸气和反应气体与基底反应以在所述基底的至少一个表面上形成含金属的层。(Cp)V(=NtBu)(NEt