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反应腔室以及设置有该反应腔室的半导体处理设备

摘要

本发明公开了一种反应腔室以及设置有该反应腔室的设备,涉及半导体设备领域,可解决现有反应腔体安装维护麻烦,石英筒容易受径向应力碎裂的问题。本发明所述反应腔室包括:反应腔,以及覆盖于所述反应腔顶端的反应腔上盖,所述反应腔包括:呈桶状的金属腔体,与所述反应腔上盖密封连接;嵌套于所述金属腔体内的石英筒,设置在所述石英筒的外壁的感应加热线圈;以及,嵌套于所述石英筒内的带孔石墨筒。

著录项

  • 公开/公告号CN104233225B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2017-03-22

    原文格式PDF

  • 申请/专利号CN201310239143.3

  • 发明设计人 党志泉;

    申请日2013-06-17

  • 分类号C23C16/44(20060101);

  • 代理机构11274 北京中博世达专利商标代理有限公司;

  • 代理人申健

  • 地址 100026 北京市朝阳区酒仙桥东路1号M5楼

  • 入库时间 2022-08-23 09:53:56

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2017-10-24

    专利权人的姓名或者名称、地址的变更 IPC(主分类):C23C 16/44 变更前: 变更后: 申请日:20130617

    专利权人的姓名或者名称、地址的变更

  • 2017-03-22

    授权

    授权

  • 2017-03-22

    授权

    授权

  • 2015-01-14

    实质审查的生效 IPC(主分类):C23C 16/44 申请日:20130617

    实质审查的生效

  • 2015-01-14

    实质审查的生效 IPC(主分类):C23C 16/44 申请日:20130617

    实质审查的生效

  • 2014-12-24

    公开

    公开

  • 2014-12-24

    公开

    公开

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