一种用于加速惰性硅化合物生长在衬底表面上的化学组合物

摘要

本发明提供的一种用于加速惰性硅化合物薄膜生长在衬底表面上的化学组合物，包括以下重量百分数的组分：氟硅酸或氟硅酸盐类化合物0.1‑25％，氨基酸类化合物0.1‑15％，铵类化合物0.05‑15％，无机酸0.001‑30％，有机酸0.001‑30％，表面活性剂0.001‑0.05％，核心添加剂0.01‑10％，余量为水。该辅助化学组合物成本低廉、使用方便、重复性好，将该辅助化学组合物应用于在硅片表面生成惰性硅化合物薄膜，制得的硅片整面色泽均匀，硅片表面惰性硅化合物薄膜分布均匀，该组合物特别适用于光伏、电子行业，可以大大降低惰性硅化合物在衬底表面生长所需要的温度，大大降低生产成本。