一种解决DV微影对准标志破坏的方法

摘要

一种解决DV微影对准标志破坏的方法，包括如下步骤：步骤一，DV微影光罩上设置DV对准标志图形，进行DV微影工艺：在待处理晶圆上定义DV对准标志图形；步骤二，刻蚀待处理晶圆上DV对准标志图形，形成沟槽形式的DV对准标志；步骤三，TE微影光罩上设置类DV对准标志图形，进行TE微影工艺：在待处理晶圆上定义类DV对准标志图形；步骤四，进行TE干法蚀刻：干法刻蚀所述DV对准标志的沟槽。本发明一种解决DV微影对准标志破坏的方法，在TE微影工艺时，将DV对准标志上的光阻打开，TE蚀刻将蚀刻DV对准标志沟槽内的残留物，使TE蚀刻后，DV对准标志沟槽内没有残留物，使后续工艺可以正常的进行，有效的解决了因DV对准标志被破坏而严重影响产品良率的问题。