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制造具有低温多晶硅的顶栅型薄膜晶体管的方法

摘要

本发明提供一种制造多晶硅薄膜晶体管的方法,该方法包括在基板上沉积非晶硅层,使非晶硅层结晶成多晶硅层,将多晶硅层制成一定图形使之形成薄膜晶体管的多晶硅有源层,在真空条件下,在多晶硅有源层上沉积氧化硅以形成栅极绝缘层,在真空条件下对栅极绝缘层进行加热使其退火并在退火的栅极绝缘层上形成栅极。

著录项

  • 公开/公告号CN1230881C

    专利类型发明授权

  • 公开/公告日2005-12-07

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 LG.;菲利浦LCD株式会社;

    申请/专利号CN03156160.8

  • 发明设计人 李锡宇;

    申请日2003-09-02

  • 分类号H01L21/336;H01L29/786;

  • 代理机构11006 北京律诚同业知识产权代理有限公司;

  • 代理人徐金国;陈红

  • 地址 韩国汉城

  • 入库时间 2022-08-23 08:58:04

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2008-07-23

    专利权人的姓名或者名称、地址的变更 变更前: 变更后: 申请日:20030902

    专利权人的姓名或者名称、地址的变更

  • 2008-07-23

    专利权人的姓名或者名称、地址的变更 变更前: 变更后: 申请日:20030902

    专利权人的姓名或者名称、地址的变更

  • 2005-12-07

    授权

    授权

  • 2005-12-07

    授权

    授权

  • 2004-06-23

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2004-06-23

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2004-04-14

    公开

    公开

  • 2004-04-14

    公开

    公开

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