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3～5μm波段选择性低发射率的红外隐身薄膜及其制备方法

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摘要

一种3～5μm波段选择性低发射率的红外隐身薄膜，可对光谱的发射辐射进行调控，实现在3.0～5.0μm的红外窗口波段的低发射率，其他波段实现高发射率；该薄膜具有多层膜结构，主要由高折射率Si材料层和低折射率MgF

1. 8～14μm波段选择性低发射率的红外隐身薄膜及其制备方法 [P] . 中国专利： CN104991291B . 2017.01.25
2. 3～5μm波段选择性低发射率的红外隐身薄膜及其制备方法 [P] . 中国专利： CN104950354A . 2015-09-30
3. CONDUCTIVE THIN FILM-EQUIPPED GLASS SUBSTRATE, THIN-FILM SOLAR CELL, LOW-EMISSIVITY GLASS SUBSTRATE, AND PRODUCTION METHOD FOR CONDUCTIVE THIN FILM-EQUIPPED GLASS SUBSTRATE [P] . 世界知识产权组织专利： WO2014061612A1 . 2014-04-24

机译：导电性薄膜安装玻璃基板，薄膜太阳能电池，低发射率玻璃基板以及制造导电性薄膜安装玻璃基板的方法
4. LOW-EMISSIVITY FILM USING MULTILAYER AMORPHOUS INDIUM GALLIUM ZINC OXIDE FILM STRUCTURE AND MANUFACTURING METHOD THEREOF [P] . 韩国专利： KR20170104189A . 2017-09-15

机译：多层非晶铟镓锌氧化物薄膜结构的低发射率薄膜及其制造方法
5. A METHOD FOR MAKING MULTI-THIN FILM COATED SUBSTRATE WITH LOW EMISSIVITY AND HYDROPHILICITY AND MULTI-THIN FILM COATED SUBSTRATE WHTH THE SAME METHOD [P] . 韩国专利： KR101576517B1 . 2015-12-11

机译：制备具有低发射率和亲水性的多层薄膜涂料的方法和采用同一方法制备多层薄膜涂料的方法