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用于制备低介电常数材料的等离子增强化学气相沉积装置

摘要

本发明公开一种用于制备低介电常数材料的等离子增强化学气相沉积装置,包括炉体、位于炉体一侧的液体源喷射机构,炉体前半段缠绕有感应线圈,此感应线圈依次连接到13.36MHz射频电源和匹配器,液体源喷射机构包括耐压不锈钢釜、第一耐压混气罐和第二耐压混气罐,第一耐压混气罐另一端与耐压不锈钢釜一端通过安装有顶针阀的管路连接,耐压不锈钢釜另一端通过安装有顶针阀、第一质量流量计的管路连接到第一喷嘴;第二耐压混气罐一端连接安装有第三进气管、第四进气管,第二耐压混气罐另一端连接到第二喷嘴。本发明结构简单、操作便捷、制造及使用费用低,实现了将不易于控制流量及速率的液态液体源转化为易于控制流量及速率的气体流,从而便捷精确调控薄膜介电常数值。

著录项

  • 公开/公告号CN103887139B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2017-01-11

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 苏州大学;

    申请/专利号CN201410137157.9

  • 发明设计人 孙旭辉;夏雨健;

    申请日2014-04-08

  • 分类号H01J37/32(20060101);

  • 代理机构32103 苏州创元专利商标事务所有限公司;

  • 代理人马明渡;王健

  • 地址 215123 江苏省苏州市工业园区仁爱路199号

  • 入库时间 2022-08-23 09:50:31

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2017-01-11

    授权

    授权

  • 2014-07-16

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01J 37/32 申请日:20140408

    实质审查的生效

  • 2014-06-25

    公开

    公开

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