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用于光敏层的图案化曝光的曝光设备和方法

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摘要

本发明涉及一种曝光设备(5)，包含:基板(6)，具有光敏层(1);发生装置(7)，产生具有曝光波长(λ

1. 用于光敏层的图案化曝光的曝光设备和方法 [P] . 中国专利： CN103890565B . 2016.11.09
2. 用于曝光光敏层的设备和方法 [P] . 中国专利： CN110073269B . 2022.03.01
3. Method for exposing photosensitive layer for projection exposure system, involves supplementary-exposing photosensitive layer with supplementary exposure radiation with wavelength for producing intensity distribution on photosensitive layer [P] . 德国专利： DE102011006189A1 . 2012-06-06

机译：用于投影曝光系统的光敏层的曝光方法，包括用具有用于在光敏层上产生强度分布的波长的附加曝光辐射对光敏层进行附加曝光。
4. An exposure apparatus and method for patterned exposure of the photosensitive layer [P] . 日本专利： JP6086503B2 . 2017-03-01

机译：用于光敏层的图案化曝光的曝光设备和方法
5. An exposure apparatus and method for patterned exposure of the photosensitive layer [P] . 日本专利： JP2014526152A . 2014-10-02

机译：用于光敏层的图案化曝光的曝光设备和方法