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一种制备室温单电子晶体管的方法

摘要

一种制备室温单电子晶体管的方法,以源极、漏极栅极、势垒层和库仑岛为基本结构,覆盖层、库仑岛、势垒层、电极、衬底和基底由上到下依次层叠;源极和漏极之上或者源极、漏极和栅极之上的势垒层利用原子层沉积系统来制备,用于形成电极与库仑岛之间电子隧穿的势垒;库仑岛利用双束系统的电子束诱导沉积来制备,其尺寸、数量和排布具有可控性。本发明精确控制势垒层厚度,精确控制库仑岛的组装定位,显著降低了单电子晶体管制备难度,改善了批量制备单电子晶体管性能的一致性。

著录项

  • 公开/公告号CN102891083B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2016-10-19

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 中国人民解放军国防科学技术大学;

    申请/专利号CN201110205684.5

  • 申请日2011-07-22

  • 分类号H01L21/335(20060101);B82Y10/00(20110101);

  • 代理机构43113 长沙正奇专利事务所有限责任公司;

  • 代理人魏国先

  • 地址 410073 湖南省长沙市砚瓦池正街47号

  • 入库时间 2022-08-23 09:48:45

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2016-10-19

    授权

    授权

  • 2013-06-05

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/335 申请日:20110722

    实质审查的生效

  • 2013-01-23

    公开

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