首页> 中国专利> 形成包括I2-II-IV-VI4和I2-(II,IV)-IV-VI4半导体膜在内的半导体膜的方法以及包括所述半导体膜的电子装置

形成包括I2-II-IV-VI4和I2-(II,IV)-IV-VI4半导体膜在内的半导体膜的方法以及包括所述半导体膜的电子装置

摘要

本发明的实施例概括来说包括使用于液体溶剂中包括元素I、II、IV和VI的来源的溶液形成具有标称I2‑II‑IV‑VI4化学计量比的半导体膜(例如CZTS或CZTSSe)的方法。可在所述溶剂中混合前体以形成所述溶液。在一些实例中,可使用金属卤化物盐作为前体。可将所述溶液涂覆到衬底上并退火以获得所述半导体膜。在一些实例中,所述元素‘I’和‘IV’的所述来源可含有处于+2价氧化态的所述元素,而所述半导体膜可含有处于+1价氧化态的所述元素‘I’和处于+4价氧化态的所述元素‘IV’。实例可用于提供I2‑(II,IV)‑IV‑VI4膜。

著录项

  • 公开/公告号CN103650155B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2016-10-12

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 华盛顿大学商业中心;

    申请/专利号CN201280015103.4

  • 发明设计人 休·希尔豪斯;纪佑锡;

    申请日2012-02-17

  • 分类号H01L31/032(20060101);H01L31/18(20060101);

  • 代理机构11287 北京律盟知识产权代理有限责任公司;

  • 代理人王璐

  • 地址 美国华盛顿州

  • 入库时间 2022-08-23 09:48:24

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-02-01

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):H01L 31/032 授权公告日:20161012 终止日期:20180217 申请日:20120217

    专利权的终止

  • 2016-10-12

    授权

    授权

  • 2016-10-12

    授权

    授权

  • 2014-04-16

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L31/032 申请日:20120217

    实质审查的生效

  • 2014-04-16

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 31/032 申请日:20120217

    实质审查的生效

  • 2014-03-19

    公开

    公开

  • 2014-03-19

    公开

    公开

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