法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2018-12-07
未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G03F 7/20 授权公告日:20161026 终止日期:20171219 申请日:20141219
专利权的终止
2016-10-26
授权
授权
2016-10-26
授权
授权
2015-04-29
实质审查的生效 IPC(主分类):G03F7/20 申请日:20141219
实质审查的生效
2015-04-29
实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/20 申请日:20141219
实质审查的生效
2015-04-01
公开
公开
2015-04-01
公开
公开
查看全部
机译: 用于极紫外光刻的反射装置,应用于其的极紫外光刻掩模,投影光学系统和光刻设备
机译: 用于扫描仪型投影照明系统的照明透镜,例如用于极紫外微光刻的步进机,在辐射源和位置之间的紫外线辐射的光路中布置了校正元件
机译: 用于极紫外微光刻的照明系统,具有照明光学器件,用于将辐射源的照明光引导到物平面内的物场中